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SYJ-200精密切割机,压力研磨抛光机,精密研磨抛光机,双靶磁控溅射仪,蒸发镀膜仪,金刚石线切割机

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高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV

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  • 产品名称:高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
  • 产品型号:OTF-1200X-4-RTP-C3HV
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简单介绍

高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP炉、三通道混气系统和高真空机组组成,可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达 3″ )的退火,并采用 10KW的红外灯进行加热,蕞快升温速度可达 120℃/s,配有RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

产品描述

产品型号

高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV

主要特点

1、双层Al2O3纤维钢构,无需水冷或风冷。

2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3PID控制器 ,可以设置30段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。

4、已通过CE认证。

技术参数

1电源:单相208-240V AC  50/60Hz  10KW

2、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm

3、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm

4、加热区:300mm

5工作温度:蕞高温度1100

6控温精度:±0.5

7、蕞高升温速度:RT-800℃时为50/s800-1000℃时为10/s

8、温控仪:可控硅(SCRPID自动控制

9、真空法兰:不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温O型圈密封,长时间在>900℃条件下运行必须采用水冷,循环水流量为0.5m3/hr

10、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

11、质量流量计:3个,MFC1范围0-100sccmMFC2范围0-200sccmMFC3范围0-500sccm,精度1±%FS

12、混气罐:Φ80mm×120mm

产品规格

尺寸:炉体760mm×330mm×530mm,真空混气系统600mm×600mm×597mm

重量:炉体45kg,真空混气系统75kg

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